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Table des matières de ce rapport 1. Principales conclusions du marché Système de pulvérisation plasma sous vide 2. Méthodologie de recherche 3. Résumé exécutif 3.1 Ventes et revenus …
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202536;Au fil des décennies, la découpe plasma a connu des avancées significatives, la transformant en la technologie polyvalente et accessible qu''elle est aujourd''hui. Voici quelques …
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La pulvérisation au plasma est une technique utilisée pour créer des films minces de diverses substances. Au cours du processus de pulvérisation au plasma, un matériau cible, sous forme …
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L’évaporation sous vide fût l’une des premières méthodes mise au point dans la égorie des dépôts physique en phase vapeur.Elle fût élaborée dans le but d’obtenir des couches minces …
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929;Le pulvérisateur de bureau à cible à magnétron unique sous vide poussé DST1-300 est un système de revêtement polyvalent capable d''appliquer des revêtements sur des …
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Le coût d''un revêtement sous vide dépend de la taille et la quantité des pièces à revêtir, le nombre de cycles de production par heure, par quarts de travail par jour et des exigences du …
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Collaboration avec les Ingénieurs de Sidel à l’industrialisation du procédé ACTIS. 2003. Rachat au groupe Sidel des activités de MES plasma par ses cadres salariés et création de la société …
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Pulvérisation cathodique magnétron en cours de dépôt de couche mince. La pulvérisation cathodique (ou sputtering) est un phénomène dans lequel des particules sont arrachées à une …
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